KMAC
超精密光學薄膜厚度測試儀系列
KMAC超精密薄膜厚度測量儀及分析儀系列已廣泛應用在韓國,日本和臺灣等許多國家的半導體工程,絕緣體薄膜,和眾多的LCD/PDP/ELD/OLED等平板顯示設備相關的生產企業。從臺式的實驗室分析設備到大型在線測量設備,KMAC提供眾多的型號和功能選擇。卓越的設計和可靠性能使埃-納米-微米級測量的精度和重復性大大提高的同時，測量速度也大大加快以滿足在線式檢測的要求。
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■ 探頭
■ 顯微鏡,帶樣品平臺及鏡頭
■ 打印電纜及穩壓電源
■ 使用n,k數據或公式等三種類型的曲線擬合分析軟件
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利用可見光間接測量
光源與信號通道
– 可見光 → 薄層 → 表面 & 分界面反射 → 玻璃纖維探針 → 分光光度計 → 波長分析 → A/D 轉換 → PC → 軟件處理
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干涉頻譜
– 相干光 → 表面反射 + 薄膜 / 底層反射 = 干涉現象 → 相長 / 相消干涉（與波長有關）
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光譜擬合薄膜厚度
– 在波長范圍里測量頻譜的正弦波型由薄膜厚度和 N&K 值決定
– 由擬合計算測定頻譜來優化薄膜厚度和 N&K 值
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⊙ 實時測量
⊙ 厚度及光學常數
⊙ 最高3層薄膜測量
⊙ 測量結果制圖
⊙ X-Y-Z移動控制
⊙ CCD影像顯示
⊙ 自定義測量過程
⊙ 打印預覽模式 |
半導體
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Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ... |
絕緣材料 |
SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ... |
聚合物 |
PVA, PET, PP, PR ... |
LCD |
a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film |
光學鍍層 |
Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ... |
可紀錄材料 |
Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ... |
其它 |
Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors ... |
功能 |
光譜反射法 |
橢偏儀 |
表面輪廓描繪 |
X射線熒光分析 |
非破壞性 |
是 |
是 |
否 |
是 |
微觀區域 |
是 |
否 |
否 |
否 |
識別圖案 |
可能 |
不可能 |
不可能 |
不可能 |
測量厚度 |
Thick(μ m) |
可能 |
有誤差 |
可以 |
可以 |
Thin(?) |
可能 |
可能 |
可能 |
不可能 |
測量速度 |
>0.5秒 |
>~分鐘 |
>~10分鐘 |
>~20分鐘 |
處理能力 |
高 |
低 |
很低 |
很低 |
金屬膜 |
否 |
否 |
是 |
特定金屬 |
N, K 值測量 |
可以 |
是 |
否 |
否 |
樣品制備 |
容易 |
容易 |
困難 |
困難 |
方便性 |
很好 |
好 |
較差 |
較差 |
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