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生命科學相關設備
 
 
 

KMAC
超精密光學薄膜厚度測試儀系列


   KMAC超精密薄膜厚度測量儀及分析儀系列已廣泛應用在韓國,日本和臺灣等許多國家的半導體工程,絕緣體薄膜,和眾多的LCD/PDP/ELD/OLED等平板顯示設備相關的生產企業。從臺式的實驗室分析設備到大型在線測量設備,KMAC提供眾多的型號和功能選擇。卓越的設計和可靠性能使埃-納米-微米級測量的精度和重復性大大提高的同時,測量速度也大大加快以滿足在線式檢測的要求。


■ 探頭
■ 顯微鏡,帶樣品平臺及鏡頭
■ 打印電纜及穩壓電源
■ 使用n,k數據或公式等三種類型的曲線擬合分析軟件


利用可見光間接測量

光源與信號通道
– 可見光 → 薄層 → 表面 & 分界面反射 → 玻璃纖維探針 → 分光光度計 → 波長分析 → A/D 轉換 → PC → 軟件處理


 



干涉頻譜

– 相干光 → 表面反射 + 薄膜 / 底層反射 = 干涉現象 → 相長 / 相消干涉(與波長有關)

 



光譜擬合薄膜厚度

– 在波長范圍里測量頻譜的正弦波型由薄膜厚度和 N&K 值決定
– 由擬合計算測定頻譜來優化薄膜厚度和 N&K 值




  ⊙ 實時測量

  ⊙ 厚度及光學常數

  ⊙ 最高3層薄膜測量

  ⊙ 測量結果制圖

  ⊙ X-Y-Z移動控制

  ⊙ CCD影像顯示

  ⊙ 自定義測量過程

  ⊙ 打印預覽模式


半導體
Poly-Si, GaAS, GaN, InP, ZnS, SiGe ...
絕緣材料
SiO 2 , Si 3 N 4 , TiO 2 , ITO, ZrO 2 , BTS, HfO 2 ...
聚合物
PVA, PET, PP, PR ...
LCD
a-Si, n+a-Si,Oxides, ITO, Cell Gap, Photoresist & Polyimide Film
光學鍍層
Hardnes Coating, Anti-Reflection Coating, Filters, Packing & Functional Film ...
可紀錄材料
Phtosensitive Drum, Video Head, Optical Disk ...
其它
Photoresist Film on CRT & Shadow Mask, Thin Metal Films, Laser Mirrors ...



功能
光譜反射法
橢偏儀
表面輪廓描繪
X射線熒光分析
非破壞性
微觀區域
識別圖案
可能
不可能
不可能
不可能
測量厚度
Thick(μ m)
可能
有誤差
可以
可以
Thin(?)
可能
可能
可能
不可能
測量速度
>0.5秒
>~分鐘
>~10分鐘
>~20分鐘
處理能力
很低
很低
金屬膜
特定金屬
N, K 值測量
可以
樣品制備
容易
容易
困難
困難
方便性
很好
較差
較差




 

 
     
 
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